title  
 
 

Ультратонкий объектив

Основной подход к созданию ультратонкого объектива высокого качества основан на модернизации классической оптической системы астрономического телескопа типа Кассегрена с добавлением "ломающих" асферических зеркал для уменьшения толщины оптической системы, а также коррекции аберраций.

Такой подход к созданию системы стал возможен благодаря появлению технологии прецизионного алмазного точения, особенно для изготовления высококачественной ИК-оптики и с помощью которой могут изготавливается поверхности удовлетворительного качества для видимого диапазона. В дальнейшем применение магнитореологической полировки существенно улучшает качество этих поверхностей.

При моделировании оптической схемы данного объектива основаны следующие источники:

  1. Eric J. Tremblay, Ronald A. Stack, Rick L. Morrison and Joseph E. Ford  Ultrathin cameras using annular folded optics // Applied Optics. – 2007. - Vol. 46, Issue 4. –  p. 463-471.

  2. Eric J. Tremblay, Ronald A. Stack, Rick L. Morrison, Jason H. Karp, and Joseph E. Ford  Ultrathin four-reflection imager // Applied Optics. – 2009. – Vol. 48, Issue 2. –  p. 343-354.
  3. Eric J. Tremblay, Joel Rutkowski, Inga Tamayo, Paulo E. X. Silveira, Ronald A. Stack, Rick L. Morrison, Mark A. Neifeld, Yeshaiyahu Fainman, and Joseph E. Ford  Relaxing the alignment and fabrication tolerances of thin annular folded imaging systems using wavefront coding //Applied Optics. – 2007. –  Vol. 46, Issue 27, p. 6751-6758.
  4. E. R. Dowski, Jr. and W. T. Cathey Extended depth of field through wavefront coding // Applied Optics.- 2005. – Vol.34. – p. 1859–1866.

 

 

  • Фокусное расстояние ........................................................................................... 23 мм
  • Размер кадра (диагональ).................................................................................. 8.5 мм
  • Светосила ............................................................................................................. 1:0.9
  • Спектральный диапазон ............................................................................... .480 -650 нм
  • Значения MTF всему рабочему полю не менее .......... 0.3. для  частоты 100 п.л/мм

 

 
 
 
 
 
 
   
 

Оптическое приборостроение, исследования, проектирование, изготовление. Расчет и оптимизация оптических систем, расчет допусков, разработка документации. Проектирование механических узлов.

©  2012-2014 Синявский И.И.

russian english